Ang prinsipyo ng paglilinis ng laser

Pangunahing kasama nito ang mga sumusunod na aspeto:

Epekto ng pagsipsip: Ang enerhiya ng laser ay maaaring masipsip ng mga contaminant sa ibabaw ng target, na nagiging sanhi ng pag-init ng contaminant absorption point, na nagiging sanhi ng thermal expansion at pagkatunaw. Ang thermal expansion na ito ay lumilikha ng thermal pressure, na nagiging sanhi ng pagdidikit ng mga contaminant sa substrate na pansamantalang bumaba, na nagiging sanhi ng paghiwalay ng mga contaminant mula sa substrate.

Plasma effect: Kapag ang power density ng laser beam ay mas mataas kaysa sa threshold ng materyal, ang plasma ay nabuo. Ang Plasma ay isang high-energy electromagnetic field na binubuo ng mga positively charged ions at free electron, na maaaring mag-alis ng mga kemikal na bono sa pagitan ng mga pollutant at substrates o mag-dissociate ng molecular structure, at sa gayon ay nililinis ang mga pollutant sa ibabaw ng target na bagay.

Evaporation effect: Kapag ang laser beam ay nag-irradiate sa ibabaw ng isang pollutant. Ang liwanag na enerhiya ay nasisipsip ng pollutant at nagpapainit sa pollutant sa isang mataas na temperatura, na nagiging sanhi ng temperatura nito na tumaas sa itaas ng temperatura ng evaporation, na nagiging sanhi ng pagsingaw ng pollutant. Ang epekto ng pagsingaw ay maaaring ganap na mag-alis ng mga kontaminant nang hindi nasisira ang substrate. Photochemical reaction: Ang laser ay tumutugon sa mga kemikal na sangkap sa ibabaw ng target na bagay. Sa gayon ay binabago ang mga katangian ng kemikal at nakakamit ang isang epekto sa paglilinis.

Epekto ng pagsabog: Sa panahon ng paglilinis ng laser, dahil sa agarang mataas na density ng enerhiya. Ang mga contaminant ay sasailalim sa isang blasting effect dahil sa thermal expansion. Ang epekto ng pagsabog na ito ay nagiging sanhi ng mga kontaminant na mabilis na masira at mahulog sa ibabaw sa maikling panahon.